The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses - Zhiqiang Li - Livres - Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm - 9783662570265 - 7 juin 2018
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The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses Softcover reprint of the original 1st ed. 2016 edition

Zhiqiang Li

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The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses Softcover reprint of the original 1st ed. 2016 edition

59 pages, 49 Illustrations, color; 3 Illustrations, black and white; XIV, 59 p. 52 illus., 49 illus.

Médias Livres     Paperback Book   (Livre avec couverture souple et dos collé)
Validé 7 juin 2018
ISBN13 9783662570265
Éditeurs Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm
Pages 59
Dimensions 124 g   (Poids (estimé))

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