Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability - Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices - Young-Hee Kim - Livres - Springer International Publishing AG - 9783031014246 - 31 décembre 2007
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Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability - Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices

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Hard breakdown and soft breakdown, particularly the Weibull slopes, were studied under constant voltage stress. The origin of soft breakdown (first breakdown) was studied and the results suggested that the soft breakdown may be due to one layer breakdown in the bilayer structure (HfO2/SiO2: 4 nm/4 nm).


92 pages, X, 92 p.

Médias Livres     Paperback Book   (Livre avec couverture souple et dos collé)
Validé 31 décembre 2007
ISBN13 9783031014246
Éditeurs Springer International Publishing AG
Pages 92
Dimensions 234 × 191 × 13 mm   ·   220 g
Langue et grammaire Anglais  

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