Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology - Seiji Samukawa - Livres - Springer Verlag, Japan - 9784431547945 - 17 février 2014
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Seiji Samukawa
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology 2014 edition

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Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

40 pages, 30 Illustrations, color; 5 Illustrations, black and white; VIII, 40 p. 35 illus., 30 illus

Médias Livres     Paperback Book   (Livre avec couverture souple et dos collé)
Validé 17 février 2014
ISBN13 9784431547945
Éditeurs Springer Verlag, Japan
Pages 40
Dimensions 155 × 235 × 222 mm   ·   86 g
Langue et grammaire Anglais  

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